Veröffentlichung zum Laser Lift Off

Laser Lift Off von GaN auf Saphir mittels fs Pulsen

Die Gruppe von Prof. Waag hat erstmalig einen neuen Ansatz für den Laser Lift Off (LLO) mittels Femtosekundenpulsen bei 520 nm Wellenlänge für die Herstellung von freistehenden GaN LED Chips demonstriert. Die Ergebnisse wurden gerade im Journal Advanced Engineering Materials veröffentlicht (Open Access).