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Infrastruktur

Die im Folgenen dargestellte Infrastruktur des Instituts für Halbleitertechnik steht für Mitglieder der TU Braunschweig und alle Kooperationspartner zur Verfügung. Bei Interesse an der Nutzung kontaktieren Sie bitte: iht(at)tu-braunschweig.de

Mask Aligner

Mask- and Bond-Aligner MABA

SMTR Mask- and Bond-Aligner MA8BA8 von Süss MicroTec

(Gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) – Projektnummer 501431011)

Ellipsometer

Ellipsometer

SENresearch 4.0 SER 850 DUV Spektroskopisches Ellipsometer von SENTECH

(gefördert aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) im Rahmen des MikroLED Lab (MLL) mit der Projektnummer 685219721)

PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

PECVD Anlage

PlasmaPro 80 PECVD-Anlage zur Abscheidung von SiOx, SiN und a-Si Schichten von Oxford Instruments

(Gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) – Projektnummer 455444208)

ICP-RIE Trockenätzanlage

Trockenätzanlage

PlasmaPro 100 Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) mit Cl2 und BCl3 von Oxford Instruments

ICP-RIE Trockenätzanlage

Trockenätzanlage

PlasmaPro 100 Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) mit CHF3, C4F8 und SF6 von Oxford Instruments

(Gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) – Projektnummer 536792788)

Verdampfer

Aufdampf-Anlage

UNIVEX 600 PVD-System mit Elektronenstrahlverdampfer von Leybold

ALD - Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition Anlage

R200 Atomic Layer Deposition (ALD) für SiO2, Al2O3 und ZnO von Picosun

MOVPE - Metal organic chemical vapor phase epitaxy

MOVPE Anlage

Close-Coupled Showerhead (CCS) 3x2" für GaAlInN Epitaxie von Thomas Swan/AIXTRON

UV Ozone Cleaner

UV-Ozon-Cleaner

UV-1 UV und Ozone Cleaner von SAMCO

(gefördert aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) im Rahmen des MikroLED Lab (MLL) mit der Projektnummer 685219721)

RTA - Rapid Thermal Annealing

Rapid Thermal Annealing Anlage

RTP 200 HT Rapid Thermal Annealing von UNITEMP

Lackverascher

Plasma-Cleaner

Nano Niederdruck-Plasmaanlage von Diener

(gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) im Rahmen der Exzellenzstrategie des Bundes und der Länder – EXC-2123 QuantumFrontiers – 390837967)

Lackverascher

Sputter-Anlage

Atto Niederdruck-Plasmaanlage von Diener, auf dem Foto oben rechts

(gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) im Rahmen der Exzellenzstrategie des Bundes und der Länder – EXC-2123 QuantumFrontiers – 390837967)

 

Sputteranlage

Sputter-Anlage

DST3-TS Sputteranlage von AMT

(gefördert aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) im Rahmen des MikroLED Lab (MLL) mit der Projektnummer 685219721)

Diverse Nassbänke

Nassbank

Nassbänke für chemische Prozesse inkl. BOE (Buffered Oxide Etch) 

Hochtemperatur-Ofen

Hochtemperatur-Ofen

LHTG 200-300/30 Hochtemperaturofen von Carbolite Gero

(gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) – Projektnummer 494876313)

Wafersäge

Wafersäge

DAD3651 Automatische Wafersäge von DISCO

Waferprober

Prober

TS 200-D Waferprober von ATV

(gefördert aus Mitteln des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) im Rahmen des MikroLED Lab (MLL) mit der Projektnummer 685219721)

SEM - Scanning Electron Microscope

Blick ins Rasterelektronenmikroskop

MIRA3 SEM von Tescan 

(gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) – Projektnummer )

Sputteranlage

Sputteranlage

Sputteranlage von Bestec 

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